စက်မှုဆိုင်ရာလျှောက်လွှာအမျိုးမျိုးတွင် Zirconium ပြားများသည်အလွန်ကောင်းမွန်သောချေးခြင်း, မြင့်မားသောအရည်ပျော်မှတ်ခြင်းနှင့်ကောင်းမွန်သောစက်ပိုင်းဆိုင်ရာဂုဏ်သတ္တိများအတွက်အလွန်တန်ဖိုးထားသည်။ သို့သော်အက်ဆစ်ပတ် 0 န်းကျင်တွင်အသုံးပြုသောအခါဇီဝနီလမ်ယမ်ပြားများ၏ကောက်ခံခြင်းသည်စိန်ခေါ်မှုများကိုရင်ဆိုင်ရနိုင်သည်။ ပရော်ဖက်ရှင်နယ်ဇာွန်ရေးပုဒ်မဂ္ဂပန်းကန်ကိုပေးသွင်းသူအနေဖြင့်အက်ဆစ်ပတ် 0 န်းကျင်ရှိဇာတိပကတိအတိုင်း 0 င်ရောက်မှုကိုမြှင့်တင်ရန်ထိရောက်သောနည်းလမ်းအချို့ကိုမျှဝေလိုပါသည်။
အက်ဆစ်ပတ် 0 န်းကျင်ရှိဇာတွန်ပုဒ်မ၏ crossion accounts ၏တိုက်စားမှုယန္တရားကိုနားလည်ခြင်း
Corrosion ခုခံမှုကိုမည်သို့တိုးတက်အောင်လုပ်ရမည်ကိုမဆွေးနွေးမီအက်ဆစ်ရောဂါတွင်ဇာတိပကတိအတိုင်းဒုံးကျည်များ၏ချေးစက်များအားနားလည်ရန်မရှိမဖြစ်လိုအပ်သည်။ ဇာကွန်နီယမ်သည်၎င်း၏မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင်သဘာဝအောက်ဆိုဒ်တွင်သဘာဝအောက်ဆိုဒ်တွင်ရှိသည်။ ၎င်းသည်ကာကွယ်မှုအချို့ကိုထောက်ပံ့ပေးသည်။ အက်ဆစ်အဖြေရှာရာတွင်အောက်ဆိုဒ်ရုပ်ရှင်သည်အက်ဆစ်နှင့်ဓာတ်ပြုပြီး၎င်းသည်၎င်း၏ဖျက်သိမ်းမှုသို့ ဦး တည်သည်။ အောက်ဆိုဒ်ရုပ်ရှင်ပျက်စီးပြီးတာနဲ့နောက်ခံဇာတွန်နီယမ်သတ္တုအက်ဆစ်အလယ်အလတ်နှင့်ထိတွေ့ခြင်းနှင့်ချေးခြင်းများဖြစ်ပေါ်လာသည်။ ချေးငှားရမ်းမှုနှုန်းသည်အက်ဆစ်, အပူချိန်နှင့်ပါဝင်မှုအမျိုးအစားနှင့်အာရုံစူးစိုက်မှုကဲ့သို့သောအချက်များကြောင့်အကျိုးသက်ရောက်သည်။
မျက်နှာပြင်ကုသမှုနည်းလမ်းများ
passivation ကုသမှု
Passivation သည်ဇာကွန်နီယမ်ပြားများ၏ချေးကောက်ယူမှုကိုမြှင့်တင်ရန်ဘုံမျက်နှာပြင်ဆေးကုသမှုနည်းလမ်းဖြစ်သည်။ ဤဖြစ်စဉ်တွင် dengser နှင့်ပိုမိုတည်ငြိမ်သောအောက်ဆိုဒ်များကို၎င်း၏မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင်ပိုမိုထူထပ်သော passivation ဖြေရှင်းချက်တစ်ခုတွင် Zirconium Plate ကိုကုသခြင်းပါဝင်သည်။ Passivation ဖြေရှင်းချက်သည်များသောအားဖြင့်ဓာတ်တိုးများနှင့် inhibitors ပါဝင်သည်။ ဥပမာအားဖြင့်နိုက်ထရစ်အက်စစ်နှင့် hydrofluoric acid ပါ 0 င်သောအဖြေတစ်ခုမှာ passivation အတွက်အသုံးပြုနိုင်သည်။ နိုက်ထရစ်အက်ဆစ်သည်အောက်ဆိုဒ်၏ဖွဲ့စည်းမှုကိုမြှင့်တင်ရန်ဓာတ်တိုးများအနေဖြင့်ဓါတ်တိုးများဖြစ်လာသည်။ passivation ပြီးနောက် zurconium ပန်းကန်သည်မည်သည့်ကျန်ရှိနေသော passivation ဖြေရှင်းချက်ကိုမဆိုဖယ်ရှားရန်သုတ်ဆေးကိုသုတ်ဆေးများကိုသုတ်သင်သင့်သည်။ ဤကုသမှုသည်အက်ဆစ်မ်ကွန်တိန်နာကို actronon plate ၏ crossion plate ကိုပိုမိုကောင်းမွန်စေနိုင်သည်။
အပေါ်ယံလွှာလျှောက်လွှာ
Zirconium ပန်းကန်၏မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင်အကာအကွယ်ပေးထားသောဖုံးကွယ်ထားသောအကာအကွယ်တစ်ခုအသုံးပြုခြင်းသည်၎င်း၏ချေးခြင်းကိုခံနိုင်ရည်ကိုတိုးတက်စေရန်နောက်ထပ်ထိရောက်သောနည်းလမ်းတစ်ခုဖြစ်သည်။ ကြွေပါးဖုံးများ, ပေါ်လီမာဖုံးများနှင့်သတ္တုဖုံးထားခြင်းကဲ့သို့သောအုတ်မြစ်အမျိုးအစားများစွာရှိသည်။ Zirconia-based accessings များကဲ့သို့ကြွေထည်များသည်အလွန်ကောင်းမွန်သောဓာတုတည်ငြိမ်မှုနှင့်မြင့်မားသောခဲယဉ်းသည်။ ၎င်းတို့သည် Zirconium Plate နှင့်အက်ဆစ်ပတ် 0 န်းကျင်အကြားရှိရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာအတားအဆီးကိုသတ္တုနှင့်အက်ဆစ်အကြားတိုက်ရိုက်ဆက်သွယ်မှုကိုတားဆီးနိုင်သည်။ ဥပမာ epoxy ဖုံးထားသည့်ပေါ်လစီအနှောက်အယှက်များကိုလည်းကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့်အသုံးပြုကြသည်။ ၎င်းတို့သည်ကောင်းမွန်သောကော်နှင့်ပြောင်းလွယ်ပြင်လွယ်ရှိသည်။ နီကယ်သို့မဟုတ်တိုက်တေနီယမ်တွင်အရောင်အသွေးစုံပိုးများကဲ့သို့သောသတ္တုဖုံးထားခြင်းသည်မြေပြင်ပေါ်တွင်ပိုမိုဆိုးရှားသည့်ခံနိုင်ရည်ရှိသောအလွှာကိုဖွဲ့စည်းခြင်းအားဖြင့်ချေးခြင်းကိုခံနိုင်ရည်ကိုမြှင့်တင်နိုင်သည်။ အပေါ်ယံပိုင်းရွေးချယ်မှုသည်အက်ဆစ်, အပူချိန်နှင့်စက်ပိုင်းဆိုင်ရာစိတ်ဖိစီးမှုကဲ့သို့သောလျှောက်လွှာ၏လိုအပ်ချက်များအပေါ်မူတည်သည်။
မည်သည့်စက်ဝိုင်း
သတ္တုစပ်သည်ဇာကွန်က်ဒွန်နီယမ်ပြားများ၏ချေးခြင်းခံမှုအပါအ 0 င်သတ္တုများ၏ဂုဏ်သတ္တိများကိုတိုးတက်စေရန်အခြေခံနည်းလမ်းဖြစ်သည်။ zirtonium သို့အချို့သောအရောအုံးအချို့ကိုထည့်သွင်းခြင်းအားဖြင့် Alkoy ၏ဖွဲ့စည်းတည်ဆောက်ပုံနှင့်ဂုဏ်သတ္တိများကိုပြုပြင်နိုင်သည်။ ဥပမာအားဖြင့်, နီအိုလမ်ယမ်, တာဆောလန်းသို့မဟုတ်ဟက်ဖ်နီယမ်ကဲ့သို့သောဒြပ်စင်များထည့်ခြင်းကအက်စစ်ပတ် 0 န်းကျင်ရှိဇာကွန်နီယမ်ကိုတွန်းအားပေးခြင်းကိုတိုးတက်စေနိုင်သည်။ ဤဒြပ်စင်များသည်အလွိုင်း၏မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင်ပိုမိုတည်ငြိမ်ပြီးအကာအကွယ်အောက်ဆိုဒ်များကိုဖွဲ့စည်းနိုင်သည်။ နီအိုဘီယမ်နှင့် Tantalum တို့သည် zirconium သို့အလားတူဓာတုဗေဒဆိုင်ရာဂုဏ်သတ္တိများရှိပြီးအောက်ဆိုဒ်တွင်ထည့်သွင်းထားပြီး၎င်းတည်ငြိမ်မှုကိုတိုးမြှင့်ခြင်းနှင့်အက်ဆစ်တိုက်ခိုက်မှုကိုခုခံနိုင်သည်။ Hafnium သည်အလွိုင်း၏ microstradructure ကိုပြောင်းလဲခြင်းအားဖြင့်ချေးယူမှုခံနိုင်ရည်ကိုတိုးတက်စေပြီးပိုမိုသောယူနီဖောင်းရိုက်ကူးမှုကိုဖြစ်ပေါ်စေသည်။ အလိုရှိသောဂုဏ်သတ္တိများကိုရရှိစေရန် completions နှင့်အပူကုသမှုကိုတိကျသောထိန်းချုပ်မှုကိုတိကျစွာထိန်းချုပ်ရန်လိုအပ်သည်။
ဖြစ်စဉ်ကို optimization
ကုန်ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်
Zirconium ပြားထုတ်လုပ်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်သည်သူတို့၏ချေးခြင်းကိုခံနိုင်ရည်ကိုထိခိုက်နိုင်သည်။ ကုန်ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်အတွင်းလှိမ့်ခြင်း, အတုနှင့်အပူကုသမှုကဲ့သို့သောအချက်များသည်ဂရုတစိုက်ထိန်းချုပ်ထားသင့်သည်။ ဥပမာအားဖြင့်သင့်လျော်သောလှိမ့်နေသော parameters များသည်တည်ငြိမ်သောအောက်ဆိုဒ်များကိုဖြစ်ပေါ်လာခြင်းအတွက်အကျိုးရှိသည်။ ဇာကွန်က်ဒ်ပန်းကန်၏စက်မှုဂုဏ်သတ္တိများနှင့်ချေးခြင်းခံနိုင်ရည်ကိုတိုးတက်စေရန်အပူကုသမှုကိုလည်းအသုံးပြုနိုင်သည်။ သင့်လျော်သောအပူချိန်တွင် annealing သည်အတွင်းပိုင်းဖိစီးမှုများသက်သာရာများကိုသက်သာစေသည်။ ထို့အပြင်ကုန်ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်အတွင်းတင်းကျပ်သောအရည်အသွေးထိန်းချုပ်မှုသည်ဇာကွန်နီယမ်ပြားသည်အညစ်အကြေးကောင်းသည့်အညစ်အကြေးများရှိပြီး၎င်းသည်အက်ဆစ်ပတ် 0 န်းကျင်တွင်ခုခံကာကွယ်မှုအတွက်အလွန်အရေးကြီးသည်။
တပ်ဆင်ခြင်းနှင့်ပြုပြင်ထိန်းသိမ်းမှု
acidonium ပန်းကန်များ၌ acatonium ပြားများကိုသင့်လျော်စွာတပ်ဆင်ခြင်းနှင့်ထိန်းသိမ်းခြင်းသည်သူတို့၏ရေရှည်ချေးယူမှုခံနိုင်ရည်အတွက်လည်းအရေးကြီးသည်။ တပ်ဆင်နေစဉ်အတွင်းမျက်နှာပြင်ပျက်စီးမှုကိုရှောင်ရှားရန်ဇာကွန်ကမ်ပုဒ်သည်ဂရုတစိုက်ကိုင်တွယ်သင့်သည်။ မျက်နှာပြင်ပေါ်ရှိခြစ်ရာများသို့မဟုတ်ချိုများသည်အောက်ဆိုဒ်ရိုက်ကူးမှုကိုအနှောင့်အယှက်ပေးပြီးချေးယူနိုင်သောအန္တရာယ်ကိုတိုးပွားစေသည်။ ထို့အပြင် installation ပတ် 0 န်းကျင်သည်သန့်ရှင်း။ သန့်ရှင်းစင်ကြယ်စေသင့်သည်။ ပုံမှန်ပြုပြင်ထိန်းသိမ်းမှုလည်းလိုအပ်သည်။ ၎င်းတွင် crossion ၏လက္ခဏာများကိုရှာဖွေတွေ့ရှိရန်ဇာကွန်နီယမ်ပန်းကန်၏အခါအားလျော်စွာစစ်ဆေးခြင်းပါဝင်သည်။ ချေးယူမှုကိုတွေ့ရှိပါကမျက်နှာပြင်ကုသမှုသို့မဟုတ်အပေါ်ယံပိုင်းပြုပြင်ခြင်းကဲ့သို့သောသင့်လျော်သောဆောင်ရွက်ချက်များကိုချက်ချင်းပြုလုပ်သင့်သည်။
ကောက်ချက်
အက်ဆစ်ပတ် 0 န်းကျင်ရှိဇာတွန်နီယမ်ပြားများချေးကောက်ယူခြင်းကိုမြှင့်တင်ခြင်းသည်ရှုပ်ထွေးသော်လည်းအောင်မြင်သောလုပ်ငန်းတစ်ခုဖြစ်သည်။ မျက်နှာပြင်သန့်စင်နည်းစနစ်များ, စက်ပစ္စည်းများ optimization နှင့်ပြုပြင်ထိန်းသိမ်းမှုနှင့်ပြုပြင်ထိန်းသိမ်းမှုကိုအသုံးပြုခြင်းအားဖြင့်, Zirconium ပန်းကန်ကိုပေးသွင်းသူတစ် ဦး အနေဖြင့်ကျွန်ုပ်တို့သည်အရည်အသွေးမြင့်မားသော zirconium ပြားများနှင့်ကျွန်ုပ်တို့၏ဖောက်သည်များအားနည်းပညာအထောက်အပံ့များပေးရန်ကတိက 0 တ်ပြုထားသည်။ ကျွန်တော်တို့၏မြင့်မားသောသန့်ရှင်းစင်ကြယ် zr firmonum plateတင်းကျပ်သောအရည်အသွေးထိန်းချုပ်မှုဖြင့်ထုတ်လုပ်ပြီးသင်၏လျှောက်လွှာ၏လိုအပ်ချက်များကိုအသေးစိတ်ဖော်ပြနိုင်သည်။
အကယ်. သင်သည်ကျွန်ုပ်တို့၏ဇာကွန်နီယမ်ပြားများကိုစိတ်ဝင်စားပါကအက်ဆစ်ပတ် 0 န်းကျင်တွင်သူတို့၏ချေးကောက်ခံခြင်းခံနိုင်ရည်အတွက်ပိုမိုသိရှိလိုပါကပိုမိုလိုအပ်ပါက 0 ယ်ယူရန်နှင့်နောက်ထပ်ဆွေးနွေးမှုများအတွက်ကျွန်ုပ်တို့အားဆက်သွယ်ပါ။ သင်၏စက်မှုလိုအပ်ချက်များကိုဖြည့်ဆည်းရန်သင်နှင့်အတူအလုပ်လုပ်ရန်မျှော်လင့်ပါသည်။
ကိုးကားခြင်း
- ဂျုံးစ်, DA (1992) ။ အခြေခံမူများ၏အခြေခံမူများနှင့်ကာကွယ်တားဆီးရေး။ Prentice ခန်းမ။
- uhlig, hh, & Revie, RW (1985) ။ Corrosion နှင့် Corrosion Control: Corrosion သိပ္ပံနှင့်အင်ဂျင်နီယာကိုမိတ်ဆက်ပေးခြင်း။ Wiley ။
- Fontana, Mg (1986) ။ ချေးအင်ဂျင်နီယာ။ McGraw - Hill ။